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光通讯领域解决方案(高频)
根据客户要求进行产品设计与热-力耦合、高频信号仿真。
高精度线宽线距能力,满足客户微型化产品需求。
膜层结合可靠,具有高可靠性。
可定制AuSn焊料适配客户封装工艺,良好的一致性降低客户封装难度。
应用场景 芯片功率 100G/200G EML芯片
产品类别 1.数据通信模块上的氧化铝、氮化铝热沉
2.电信光模块、光放大器上的芯片载体
产品规格 项目 规格
陶瓷基板 材质 氮化铝多层共烧基板
表面粗糙度 Ra<0.05μm
热导率 170 W/(m·K)
热膨胀系数 4.6 ppm/°C
三点抗弯 400 MPa
介电常数 8.51 GHz
金属化通孔 Tungsten (W)
内层 Tungsten (W)
表面薄膜线路 膜层结构 Ti/Pt/Au=0.06/0.2/0.3μm~10.0μm
图案能力 L/S=5μm/5μm
TaN电阻 25Ω/▢、50Ω/▢(±5%)、T.C.R-50±50ppm/°C
AuSn焊料 1.5~7μm±20%(75±5wt%Au)可定制
其他 切割精度 ±50um
Product application
工业加工应用
在自动化生产线中,激光切割和焊接是常见的加工工艺。陶瓷热沉能够有效管理激光器的热量,确保设备在高负荷工作下的稳定性和持久性,提升切割和焊接的精度。激光传感器在自动化检测中起着关键作用。陶瓷热沉能够保持激光发射器的温度稳定,确保检测过程中的测量精度,适用于尺寸测量、表面检测等。
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